Silika dioksida, juga dikenal sebagai silikon dioksida atau silika, adalah bahan yang umum digunakan dalam produksi film tipis untuk berbagai
Aplikasi, termasuk film CTF (Color Thin Film). Film CTF digunakan di berbagai perangkat elektronik, seperti tampilan,
layar sentuh, dan pelapis optik.
Silika dioksida adalah bahan transparan dan sangat bias, membuatnya ideal untuk aplikasi film tipis di mana sifat optik
sangat penting. Ini memiliki titik leleh yang tinggi, stabilitas termal yang sangat baik, dan ketahanan kimia yang baik, membuatnya cocok untuk digunakan
lingkungan yang keras.
Dalam produksi film CTF, silika dioksida biasanya diendapkan ke substrat menggunakan teknik seperti uap fisik
deposisi (PVD) atau deposisi uap kimia (CVD). Proses -proses ini memungkinkan pengendapan yang dikendalikan dari lapisan tipis
Silika dioksida ke substrat, menghasilkan film yang seragam dan berkualitas tinggi.
Ketebalan film silika dioksida dapat dikontrol untuk mencapai sifat optik tertentu, seperti pelapis anti-reflektif
atau filter warna. Dengan menyesuaikan ketebalan dan indeks bias film, panjang gelombang cahaya yang berbeda dapat secara selektif
ditransmisikan atau dipantulkan, mengarah ke efek warna yang diinginkan dalam film CTF.
Silika dioksida juga digunakan sebagai lapisan penghalang dalam film CTF untuk melindungi lapisan yang mendasarinya dari kelembaban, oksigen, dan lainnya
faktor lingkungan. Ini membantu meningkatkan daya tahan dan umur panjang film, memastikan kinerjanya dari waktu ke waktu.
Secara keseluruhan, silika dioksida adalah bahan yang serba guna dan penting dalam produksi film CTF, memberikan sifat optik yang sangat baik,
stabilitas termal, dan perlindungan untuk perangkat elektronik.
Pigmen antikorosi, lapisan reseptif inkjet, agen anyaman, hewan peliharaan
